尼康计划2028年推出全新浸没式ArF光刻机，挑战ASML在主导生态中的地位

尼康全新ArF光刻机面世，引领下一代芯片制造变革

　　 2月19日消息，尼康在2025财年第三财季（截至2024年12月31日）的财报演示文稿中表示，该公司正在与合作伙伴共同研发一款兼容ASML主导的浸没式ArF（注：也称ArFi）光刻技术的新光刻机，预计于2028财年（2027年4月~2028年3月）发布。

　　 在浸没式ArF光刻领域，ASML目前凭借其成熟的TWINSCAN双工件台技术牢牢占据着超过九成的光刻机市场份额。而该市场中唯一的另一家竞争者尼康则希望将市场份额提升至与干式ArF领域相当的更高水平。

　　 随着DRAM内存和逻辑半导体向三维发展的趋势，尼康预计浸没式ArF光刻的需求将会增加。为了从ASML手中争取更多ArFi订单，尼康计划让其正在开发的浸没式ArF光刻机与ASML的同类设备生态系统兼容，以便原本打算使用ASML光刻机的客户能够顺利转移到尼康平台。

　　 此外，尼康宣布其新一代浸没式ArF光刻机将采用全新的镜头和工件台设计，并强调了设备体积更小且便于维护的优点。这一创新无疑将为半导体制造行业带来新的活力，尤其是在当前芯片需求持续增长的背景下。据透露，再下一代产品的研发工作预计将在2030年之后开始，这表明尼康正在为长期的技术发展做准备，以确保在未来继续保持技术领先地位。